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Artigo em Revista Científica Internacional

Substrate Temperature Effect on Microstructure, Optical, and Glucose Sensing Characteristics of Pulsed Laser Deposited Silver Nanoparticles
Kamakshi, K (Autor) (Outra); Silva, JPB (Autor) (Outra); Sekhar, KC (Autor) (Outra); Agostinho Moreira, JA (Autor) (FCUP); Almeida, A (Autor) (FCUP); Pereira, M (Autor) (Outra); Gomes, MJM (Autor) (Outra)
Resistive switching in ferroelectric lead-free 0.5Ba (Zr0.2Ti0.8)O-3-0.5(Ba0.7Ca0.3)TiO3 thin films
Silva, JPB (Autor) (Outra); Kamakshi, K (Autor) (Outra); Sekhar, KC (Autor) (Outra); Queiros, EC (Autor) (Outra); Agostinho Moreira, JA (Autor) (FCUP); Almeida, A (Autor) (FCUP); Pereira, M (Autor) (Outra); Tavares, PB (Autor) (Outra); Gomes, MJM (Autor) (Outra)
Light controlled resistive switching and photovoltaic effects in ferroelectric 0.5Ba(Zr0.2Ti0.8)O-3-0.5(Ba0.7Ca0.3)TiO3 thin films
Silva, JPB (Autor) (Outra); Kamakshi, K (Autor) (Outra); Sekhar, KC (Autor) (Outra); Novoa, XR (Autor) (Outra); Queiros, EC (Autor) (Outra); Agostinho Moreira, JA (Autor) (FCUP); Almeida, A (Autor) (FCUP); Pereira, M (Autor) (Outra); Tavares, PB (Autor) (Outra); Gomes, MJM (Autor) (Outra)
Influence of substrate temperature on the properties of pulsed laser deposited silver nanoparticle thin films and their application in SERS detection of bovine serum albumin
Kamakshi, K (Autor) (Outra); Silva, JPB (Autor) (Outra); Sekhar, KC (Autor) (Outra); Marslin, G (Autor) (Outra); Agostinho Moreira, JA (Autor) (FCUP); Conde, O (Autor) (Outra); Almeida, A (Autor) (FCUP); Pereira, M (Autor) (Outra); Gomes, MJM (Autor) (Outra)
Ferroelectric phase transitions studies in 0.5Ba(Zr0.2Ti0.8)O-3-0.5(Ba0.7Ca0.3)TiO3 ceramics
Silva, JPB (Autor) (Outra); Queiros, EC (Autor) (Outra); Tavares, PB (Autor) (Outra); Sekhar, KC (Autor) (Outra); Kamakshi, K (Autor) (Outra); Agostinho Moreira, JA (Autor) (FCUP); Almeida, A (Autor) (FCUP); Pereira, M (Autor) (Outra); Gomes, MJM (Autor) (Outra)
Enhanced resistive switching characteristics in Pt/BaTiO3/ITO structures through insertion of HfO2:Al2O3 (HAO) dielectric thin layer
Silva, JPB (Autor) (Outra); Faita, FL (Autor) (Outra); Kamakshi, K (Autor) (Outra); Sekhar, KC (Autor) (Outra); Agostinho Moreira, JA (Autor) (FCUP); Almeida, A (Autor) (FCUP); Pereira, M (Autor) (Outra); Pasa, AA (Autor) (Outra); Gomes, MJM (Autor) (Outra)

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