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The influence of the nanostructure design on the corrosion behaviour of TiN thin films prepared by glancing angle deposition

Título
The influence of the nanostructure design on the corrosion behaviour of TiN thin films prepared by glancing angle deposition
Tipo
Artigo em Revista Científica Internacional
Ano
2025
Autores
Lopes, C
(Autor)
Outra
A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. Sem AUTHENTICUS Sem ORCID
Alves, AC
(Autor)
FEUP
Ferreira, A
(Autor)
Outra
A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. Sem AUTHENTICUS Sem ORCID
Alves, E
(Autor)
Outra
A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. Sem AUTHENTICUS Sem ORCID
Barradas, NP
(Autor)
Outra
A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. Sem AUTHENTICUS Sem ORCID
Borsan, I
(Autor)
Outra
A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. Sem AUTHENTICUS Sem ORCID
Munteanu, D
(Autor)
Outra
A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. Sem AUTHENTICUS Sem ORCID
Vaz, F
(Autor)
Outra
A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. Sem AUTHENTICUS Sem ORCID
Revista
Vol. 329
ISSN: 0254-0584
Editora: Elsevier
Indexação
Publicação em ISI Web of Knowledge ISI Web of Knowledge - 0 Citações
Publicação em Scopus Scopus - 0 Citações
Outras Informações
ID Authenticus: P-017-ABZ
Abstract (EN): This study reports on the influence of nanostructure design on the corrosion behaviour of titanium nitride (TiN) thin films, prepared by DC reactive magnetron sputtering, using the Glancing Angle Deposition (GLAD) technique. The primary objective was to explore how modifying the deposition geometry affects the growth design and surface features of TiN films (keeping roughly constant the N/Ti ratio) and compare these effects with those produced by changing the chemical composition within the same thin film system (N/Ti increasing ratios). For this, two groups of samples were prepared: Group 1 - the samples were prepared in the conventional geometry (normal growth) with varied nitrogen content (stoichiometric and non-stoichiometric films) and; Group 2 - the samples were prepared with modified growth geometries (inclined and zigzag, with increasing incidence angles), keeping an almost unchanged stoichiometry. The results revealed increased surface porosity and roughness for Group 2 films compared to Group 1, demonstrating that deposition geometry can affect more significantly the surface characteristics than the composition variations. Corrosion studies indicated that the films prepared within Group 2, despite having higher porosity, showed a more stable open circuit potential (OCP) and nobler values than the reference close-stoichiometric TiN 0.92 film (reference sample) from Group 1. However, potentiodynamic polarization curves suggested higher corrosion kinetics for Group 2 films, most likely due to their increased surface heterogeneities. Electrochemical impedance spectroscopy (EIS) confirmed these findings, showing lower corrosion resistance for films prepared with inclined and zigzag geometries, if compared to the films prepared in conventional geometry (Group 1 samples). This study advances the current state of the art on this film's responses, by demonstrating that tailoring nanostructure design through deposition geometry offers a promising approach to optimize the corrosion behaviour of TiNx without the need to change its composition.
Idioma: Inglês
Tipo (Avaliação Docente): Científica
Nº de páginas: 10
Documentos
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