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A new OMCVD iridium precursor for thin film deposition

Título
A new OMCVD iridium precursor for thin film deposition
Tipo
Artigo em Revista Científica Internacional
Ano
2001
Autores
Serp, P
(Autor)
Outra
A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. Sem AUTHENTICUS Sem ORCID
Feurer, R
(Autor)
Outra
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Kalck, P
(Autor)
Outra
A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. Sem AUTHENTICUS Sem ORCID
Gomes, H
(Autor)
Outra
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Faria, JL
(Autor)
FEUP
Ver página pessoal Enviar mensagem Pesquisar Publicações do Participante Ver página do Authenticus Sem ORCID
Figueiredo, JL
(Autor)
FEUP
Ver página pessoal Sem permissões para visualizar e-mail institucional Pesquisar Publicações do Participante Ver página do Authenticus Ver página ORCID
Revista
Vol. 7
Páginas: 59-62
ISSN: 0948-1907
Indexação
Publicação em ISI Web of Science ISI Web of Science
COMPENDEX
Classificação Científica
FOS: Ciências da engenharia e tecnologias > Engenharia dos materiais
Outras Informações
ID Authenticus: P-000-W6R
Idioma: Inglês
Tipo (Avaliação Docente): Científica
Nº de páginas: 4
Documentos
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