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Micro e Nano Fabricação

Código: F4022     Sigla: F4022     Nível: 400

Áreas Científicas
Classificação Área Científica
OFICIAL Física

Ocorrência: 2019/2020 - 1S

Ativa? Sim
Unidade Responsável: Departamento de Física e Astronomia
Curso/CE Responsável: Mestrado em Física

Ciclos de Estudo/Cursos

Sigla Nº de Estudantes Plano de Estudos Anos Curriculares Créditos UCN Créditos ECTS Horas de Contacto Horas Totais
M:F 4 Plano de Estudos Oficial 1 - 3 34 81
MI:EF 17 Plano estudos a partir do ano letivo 2017/18 4 - 3 34 81

Docência - Responsabilidades

Docente Responsabilidade
Paulo Vicente da Silva Marques Regente

Docência - Horas

Teorico-Prática: 0,43
Práticas Laboratoriais: 2,00
Tipo Docente Turmas Horas
Teorico-Prática Totais 2 0,86
Paulo Vicente da Silva Marques 0,43
Práticas Laboratoriais Totais 2 4,00
Paulo Vicente da Silva Marques 4,00

Língua de trabalho

Inglês

Objetivos

Objectivos

Saber responder a questões qualitativas e quantitativas sobre salas limpas e técnicas de micro e nanofabricação

Efetuar a conceção e o planeamento de experiências.

Conduzir pesquisas de literatura, incluindo análise crítica de artigos técnicos, e expressão oral e escrita.

Desenvolver miniprojectos com temática bem definida.

Resultados de aprendizagem e competências

Competências Principais:

aplicar conhecimentos de matemática, ciências e engenharia;

concepção, condução de experiências, análise e interpretação crítica de dados;

trabalhar em equipas multidisciplinares;

identificar, formular e resolver problemas de engenharia;

identificar processos e/ou sistemas materiais para atingir determinadas especificações;

técnicas modernas e ferramentas de física e de engenharia;

aptidões de apresentação e comunicação

     

Modo de trabalho

Presencial

Programa

•                Caraterísticas gerais e especificações de salas limpas. Modo de funcionamento e sistemas de apoio. Regras gerais de funcionamento e segurança.

•                Fabricação de filmes finos por “ sputtering”, evaporação térmica, feixes de eletrões e iões, e por “Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition” (PECVD).

•                Microlitografia: produção de máscaras por litografia de contacto e escrita direta a laser.

•                Microestruturação em plasma reativo (“dry-etching”). Micromaquinação de silício em solução (“wet-etching”).

•                Técnicas de caraterização: ótica e perfilometria.

•                “Wire bonding”. Corte e polimento de substratos e de dispositivos.

•                Fabricação de um microdispositivo funcional.

Bibliografia Obrigatória

Madou Marc J.; Fundamentals of microfabrication. ISBN: 0-8493-0826-7

Métodos de ensino e atividades de aprendizagem

O ensino desta unidade curricular é baseado numa aproximação do tipo de resolução de problemas. Os estudantes, baseados nos conhecimento técnicos adquiridos através da leitura dos artigos científicos e ou documentos técnicos fornecidos, planeiam a experiência a efetuar, sendo apoiados pelo docente. O docente apoiará ainda os estudantes na realização da experiência e na análise crítica dos resultados. O docente deverá ainda debater com os estudantes quais os resultados mais relevantes e que deverão ser alvo de uma análise mais detalhada. 

Tipo de avaliação

Avaliação distribuída sem exame final

Componentes de Avaliação

Designação Peso (%)
Participação presencial 10,00
Prova oral 45,00
Trabalho escrito 45,00
Total: 100,00

Componentes de Ocupação

Designação Tempo (Horas)
Estudo autónomo 47,00
Frequência das aulas 34,00
Total: 81,00

Obtenção de frequência

Presença obrigatória em pelo menos 2/3 das aulas.

Fórmula de cálculo da classificação final

A avaliação consiste em três componentes distintas: avaliação contínua (10%), ensaio individual (45%) apresentação oral do ensaio efetuado e questões orais sobre técnicas de micro e nanofabricação(45%)

Classificação mínima de 7,0/20 valores em cada componente com valorização  acima de 30%.

Melhoria de classificação

Submissão de novo ensaio escrito e nova apresentação oral do mesmo, que correspondem a 90% da nota.
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