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Perovskite ferroelectric thin film as an efficient interface to enhance the photovoltaic characteristics of Si/SnO(x)heterojunctions

Título
Perovskite ferroelectric thin film as an efficient interface to enhance the photovoltaic characteristics of Si/SnO(x)heterojunctions
Tipo
Artigo em Revista Científica Internacional
Ano
2020
Autores
Silva, JPB
(Autor)
Outra
A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. Sem AUTHENTICUS Sem ORCID
Vieira, EMF
(Autor)
Outra
A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. Sem AUTHENTICUS Sem ORCID
Silva, JMB
(Autor)
Outra
A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. Sem AUTHENTICUS Sem ORCID
Gwozdz, K
(Autor)
Outra
A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. Sem AUTHENTICUS Sem ORCID
Figueiras, FG
(Autor)
FCUP
Veltruska, K
(Autor)
Outra
A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. Sem AUTHENTICUS Sem ORCID
Matolin, V
(Autor)
Outra
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Istrate, MC
(Autor)
Outra
A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. Sem AUTHENTICUS Sem ORCID
Ghica, C
(Autor)
Outra
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Sekhar, KC
(Autor)
Outra
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Kholkin, AL
(Autor)
Outra
A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. Sem AUTHENTICUS Sem ORCID
Goncalves, LM
(Autor)
Outra
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Chahboun, A
(Autor)
Outra
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Pereira, M
(Autor)
Outra
A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. Sem AUTHENTICUS Sem ORCID
Revista
Vol. 8
ISSN: 2050-7488
Outras Informações
ID Authenticus: P-00S-AKJ
Abstract (EN): The photovoltaic (PV) response of SnOx/Si heterojunctions (HJs) through the change of the SnO and SnO(2)ratio in the samples that allows us to obtain p- or n-type SnO(x)films is investigated in this work. The values of short-circuit photocurrent density (J(sc)), open-circuit voltage (V-OC), fill factor (FF) and power conversion efficiency (PCE) are found to be 12.6 mA cm(-2), 0.23 V, 27% and 8.3%, for the p-SnOx/n-Si HJ and 10.3 mA cm(-2), 0.20 V, 20% and 4.5% for the n-SnOx/p-Si HJ. The enhanced PV effect observed in the p-SnOx/n-Si HJs can be attributed to a small band offset between SnO(x)and Si, which lowers the diffusion length that can contribute to higher recombination rate and smaller series resistance. Furthermore, the values ofJ(sc),V-OC, FF and PCE were enhanced up to 30.9 mA cm(-2), -2.0 V, 19% and 10.9%, respectively, through the insertion of a 0.5Ba(Zr0.2Ti0.8)O-3-0.5(Ba0.7Ca0.3)TiO3(BCZT) ferroelectric layer between n-Si and p-SnOx. The built-in field developed at the Si/BCZT/SiOx/SnO(x)interfaces together with the depolarizing field, provides a favorable electric potential for the separation and further transport of photo generated electron-hole (e-h) pairs. This work provides a viable approach by combining ferroelectrics with p-SnOx/n-Si HJs for building efficient ferroelectric-based solar cells.
Idioma: Inglês
Tipo (Avaliação Docente): Científica
Nº de páginas: 13
Documentos
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