Projeto: PTDC/CTM-CTM/31953/2017

Designação do projeto:	USEcoIN - Evolução estrutural de Interligações de cobre avançadas para aplicações nanoeletrónicas
Código do projeto:	PTDC/CTM-CTM/31953/2017
Objetivo Principal:	Reforçar a investigação, o desenvolvimento tecnológico e a inovação
Região de Intervenção:	Norte
Instituição proponente/ Promotor líder/ Entidade coordenadora:	Faculdade de Engenharia da Universidade do Porto
Parceiro(s) / Co-promotor(es) / Instituição(ões) participante(s):	INL - International Iberian Nanotechnology Laboratory
Data de aprovação:	2018-05-14
Data de início:	2018-09-01
Data de conclusão:	2021-12-31

Custo Elegível do Projeto

Custo Total Elegível:	183.855,33 EUR
Custo Elegível na Universidade do Porto:	157.995,96 EUR
Faculdade de Engenharia da Universidade do Porto:	157.995,96 EUR

Apoio Financeiro Global

Orçamento de Estado:

183.855,33 EUR

Apoio Financeiro à Universidade do Porto

Total da Universidade do Porto:	157.995,96 EUR
Nacional/Regional \| Orçamento de Estado \| Faculdade de Engenharia da Universidade do Porto:	157.995,96 EUR

Objetivos, atividades e resultados esperados/atingidos

Objetivos e Atividades O presente projeto de investigação tem como objetivo principal o estudo dos fenômenos de dewetting e eletromigração em filmes finos de cobre depositados em diferentes substratos (que simulam as camadas de barreira de difusão).
Para cumprir este objetivo, é necessário o conhecimento dos mecanismos físicos que desencadeiam esses fenômenos nos filmes nanocristalinos. Estes mecanismos serão investigados com recurso a técnicas avançadas de caraterização de materiais.
Para atingir os objetivos do projeto, o trabalho de investigação está dividido em seis tarefas:
1. Produção de filmes finos de barreira / semente;
2. Deposição de cobre nanocristalino;
3. Testes térmicos e elétricos de amostras;
4. Caraterização elétrica e à microescala;
5. Caraterização à nanoescala;
6. Gestão do projeto e divulgação de resultados.
Resultados Esperados/Atingidos Os primeiros resultados serão a produção de filmes de cobre nanocristalino e de filmes barreira em CoW, RuMn e RuW para posterior deposição do cobre.
Na segunda tarefa serão selecionados os melhores grupos de filmes barreira e cobre para testes térmicos e elétricos a executar na tarefa 3. Essa seleção resulta da caraterização microestrutural e nanoestrutural.
Estes conjuntos selecionados serão analisados em testes térmicos e elétricos que simulam as condições de funcionamento em serviço de IC. Nesta fase serão particularmente importantes os resultados sobre dewetting e eletromigração e a caraterização até à nanoescala para investigar os mecanismos associados a estes fenómenos.
Os resultados do projeto serão divulgados em publicações periódicas e em conferências e é esperada uma tese de doutoramento com um tema integrado no projeto.

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