Project: PTDC/CTM-CTM/31953/2017

Project name:	USEcoIN - Understanding the Structure Evolution of Seedless Copper Interconnects for Nanoelectronics
Project code:	PTDC/CTM-CTM/31953/2017
Main Objective:	Reforçar a investigação, o desenvolvimento tecnológico e a inovação
Intervention Region:	Norte
Proposing institution/Lead promoter/Coordinating entity:	Faculdade de Engenharia da Universidade do Porto
Partner(s)/Co-promoter(s)/Participating institution(s):	INL - International Iberian Nanotechnology Laboratory
Date of approval:	2018-05-14
Start date:	2018-09-01
Completion date:	2021-12-31

Eligible Cost of the Project

Total Eligible Cost:	183.855,33 EUR
Eligible Cost in the University of Porto:	157.995,96 EUR
Faculdade de Engenharia da Universidade do Porto:	157.995,96 EUR

Total Financial Support

Orçamento de Estado:

183.855,33 EUR

Financial Support to the University of Porto

Total of the University of Porto:	157.995,96 EUR
Nacional/Regional \| Orçamento de Estado \| Faculdade de Engenharia da Universidade do Porto:	157.995,96 EUR

Objectives, activities and expected/achieved results

Objetivos e Atividades O presente projeto de investigação tem como objetivo principal o estudo dos fenômenos de dewetting e eletromigração em filmes finos de cobre depositados em diferentes substratos (que simulam as camadas de barreira de difusão).
Para cumprir este objetivo, é necessário o conhecimento dos mecanismos físicos que desencadeiam esses fenômenos nos filmes nanocristalinos. Estes mecanismos serão investigados com recurso a técnicas avançadas de caraterização de materiais.
Para atingir os objetivos do projeto, o trabalho de investigação está dividido em seis tarefas:
1. Produção de filmes finos de barreira / semente;
2. Deposição de cobre nanocristalino;
3. Testes térmicos e elétricos de amostras;
4. Caraterização elétrica e à microescala;
5. Caraterização à nanoescala;
6. Gestão do projeto e divulgação de resultados.
Resultados Esperados/Atingidos Os primeiros resultados serão a produção de filmes de cobre nanocristalino e de filmes barreira em CoW, RuMn e RuW para posterior deposição do cobre.
Na segunda tarefa serão selecionados os melhores grupos de filmes barreira e cobre para testes térmicos e elétricos a executar na tarefa 3. Essa seleção resulta da caraterização microestrutural e nanoestrutural.
Estes conjuntos selecionados serão analisados em testes térmicos e elétricos que simulam as condições de funcionamento em serviço de IC. Nesta fase serão particularmente importantes os resultados sobre dewetting e eletromigração e a caraterização até à nanoescala para investigar os mecanismos associados a estes fenómenos.
Os resultados do projeto serão divulgados em publicações periódicas e em conferências e é esperada uma tese de doutoramento com um tema integrado no projeto.

Recommend this page Top

Copyright 1996-2024 © Faculdade de Engenharia da Universidade do Porto I Terms and Conditions I Accessibility I Index A-Z I Guest Book
Page generated on: 2024-05-13 at 05:03:54 | Acceptable Use Policy | Data Protection Policy | Complaint Portal