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Publicações

Mechanical characterization of reactively magnetron-sputtered TiN films

Título
Mechanical characterization of reactively magnetron-sputtered TiN films
Tipo
Artigo em Revista Científica Internacional
Ano
2003
Autores
Vaz, F
(Autor)
Outra
A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. Ver página do Authenticus Sem ORCID
Machado, P
(Autor)
Outra
A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. Sem AUTHENTICUS Sem ORCID
Rebouta, L
(Autor)
Outra
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Cerqueira, P
(Autor)
Outra
A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. Sem AUTHENTICUS Sem ORCID
Goudeau, P
(Autor)
Outra
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Riviere, JP
(Autor)
Outra
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Alves, E
(Autor)
Outra
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Pischow, K
(Autor)
Outra
A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. Sem AUTHENTICUS Sem ORCID
de Rijk, J
(Autor)
Outra
A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. Sem AUTHENTICUS Sem ORCID
Revista
Vol. 174
Páginas: 375-382
ISSN: 0257-8972
Editora: Elsevier
Outras Informações
ID Authenticus: P-000-FFP
Abstract (EN): TiN hard coatings with thickness ranging from 1.2 to 3.5 mum were prepared by r.f. reactive magnetron-sputtering in an Ar/N-2 gas mixture. Texture, residual stresses, hardness and adhesion as a function of the r.f. power and bias voltage were investigated. X-ray diffraction experiments showed a unique delta-TiN phase for all the samples. All coatings revealed residual compressive stresses, whose amplitude increased with the r.f. power up to 800 W, followed by a slight decrease. The increase in adatom mobility is the main parameter that explains this behaviour up to 800 W, whereas the decrease observed for r.f. powers above 800 W can be explained from the stress relaxation that occurs due to internal cracks resulting from the large amount of accumulated elastic stresses. Defect annihilation effect is the main parameter, which can explain the stress behaviour at higher bias voltages. The effect of ion bombardment and the defect creation at the lower negative voltages are the main parameters that explain the increase observed in stress state. Residual stresses together with the reduced grain size are the main factors that seem to control the hardness and adhesion behaviour. Differences in failure mechanisms were detected with the variation in the deposition conditions, indicating a clear influence in coating performance.
Idioma: Inglês
Tipo (Avaliação Docente): Científica
Nº de páginas: 8
Documentos
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