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Kinetic Simulation of Discharges and Afterglows in Molecular Gases

Título
Kinetic Simulation of Discharges and Afterglows in Molecular Gases
Tipo
Artigo em Revista Científica Internacional
Ano
2010
Autores
V. Guerra
(Autor)
FEUP
A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. Sem AUTHENTICUS Sem ORCID
K. Kutasi
(Autor)
FEUP
A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. Sem AUTHENTICUS Sem ORCID
M. Lino da Silva
(Autor)
Outra
A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. Sem AUTHENTICUS Sem ORCID
P. A . Sá
(Autor)
FEUP
J. Loureiro
(Autor)
FEUP
A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. A pessoa não pertence à instituição. Sem AUTHENTICUS Sem ORCID
Revista
Vol. 14 1
Páginas: 135-150
ISSN: 1093-3611
Editora: Begell House
Indexação
Classificação Científica
FOS: Ciências exactas e naturais
Outras Informações
ID Authenticus: P-003-B3Q
Abstract (EN): A detailed kinetic model is designed and developed in order to investigate gas discharges in molecular plasmas and their afterglows. The theoretical formulation comprises the description of the electron, vibrational, chemical, ionic and surface kinetics. The model is applied to study and interpret two rather different phenomena. The first one is the nitrogen pink afterglow. It is established that the maxima present in the concentrations of several species which appear downstream from the discharge in a flowing nitrogen afterglow, in a field-free region and after a dark zone are formed as a result of the V-V up-pumping of N2(χ1Σ+g) molecules, followed by V-E transfers producing locally the metastable states N2(A3Σu+) and N2(a1Σu-). The need for an accurate description of the high vibrational levels is pointed out. The vibrational energy levels are recalculated from the RKR method and used additionally in the study of dissociation in extreme re-entry conditions. The second application is the study of a plasma sterilization system using an Ar-O2 mixture. It is shown that the Ar(4s) do not survive long enough to be responsible for the UV/VUV emissions in the reactor, and that O2 is strongly dissociated. Moreover, the choice of the wall material can contribute significantly to create a more homogeneous distribution of several active species
Idioma: Português
Tipo (Avaliação Docente): Científica
Documentos
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